| 主权项 |
1.一种清洗装置,系在清洗槽之上方设有用以进行被清洗物之清洗、乾燥之蒸气清洗部,下方设有充填清洗液并将此清洗液蒸气化之蒸气产生部,其中介由连通口使蒸气清洗部与蒸气产生部能连通,而以可上下移动之密闭盖体使连通口能密闭或开放为其特征者。2.如申请专利范围第1项之清洗奘置,其中该连通口之开放,系在连通口与密闭盖体之间,介由仅能流通清洗蒸气或清洗液之流通间隙而施行者。3.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中该密闭盖体系较分隔蒸气清洗部与蒸气产生部之分隔墙所设连通口之径为大之板状构件所形成,而由上下动作机构将此板状构件以能上下动作之方式连接于分隔墙,由此使连通口能密闭或开放者。4.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中之该密闭盖体系较分隔蒸气清洗部与蒸气产生部之分隔墙所成连通口之径为大之板状构件所形成之同时,此板状构件之一端轴撑于分隔墙,介由该轴撑依上下动作机构可使密闭盖体上下动,而使连通口能密闭或开放者。5.如申请专利范围第1项、第2项、第3项或第4项之清洗装置,其中设有连通口之分隔墙与密闭盖体间之连接部,系在配置于上部侧构件之下面配置封口构件而成为可密闭者。6.如申请专利范围第1项之清洗装置,其中之该蒸气产生部系连接于抽逐部,而该抽逐部则设于,清洗液槽连接有泵用以循环清洗液之循环管线之一部者。7.如申请专利范围第1项、第2项、第3项或第4项之清洗装置,其中于蒸气清洗部之蒸气清洗系减压蒸气清洗者。8.如申请专利范围第1项、第2项、第3项或第4项之清洗装置,其中于蒸气清洗部之蒸气清洗系大气压蒸气清洗者。图式简单说明:第一图为本发明第1实施例中,实施蒸气清洗状态之剖面图。第二图为本发明第1实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第三图为本发明第2实施例中,实施蒸气清洗状态之剖面图。第四图为本发明第2实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第五图为本发明第3实施例中,实施蒸气清洗状态之剖面图。第六图为本发明第3实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第七图为本发明第4实施例中,实施蒸气清洗状态之剖面图。第八图为本发明第4实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第九图为本发明第5实施例中,实施蒸气清洗状态之剖面图。第十图为本发明第5实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第十一图为本发明第6实施例中使用抽逐器,实施浸渍清洗或蒸气清洗状态之剖面图。第十二图为本发明第6实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第十三图为本发明第7实施例中使用抽逐器,实施浸渍清洗或蒸气清洗状态之剖面图。第十四图为本发明第7实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第十五图为本发明第8实施例中使用抽逐部,实施浸渍清洗或蒸气清洗状态之剖面图。第十六图为本发明第8实施例中,实施乾燥处理状态之剖面图。第十七图为本发明第9实施例中使用抽逐器,实施浸渍清洗或乾燥处理状态之剖面图。第十八图为本发明第9实施例中,实施蒸气清洗处理状态之剖面图。第十九图为在密闭盖体上面配置封口构件状态之剖面图。 |
