发明名称 Übertragung eines Musters hoher Strukturdichte durch multiple Belichtung weniger dichter Teilmuster
摘要 Beschrieben wird ein Verfahren zum Übertragen von einem Muster, das kleine, dicht gepackte Strukturen aufweist, von einem Strukturträger auf einen Gegenstand. Das Verfahren zeichnet sich dadurch aus, daß aus den Strukturen mindestens zwei Teilmuster weniger dicht gepackter Strukturinhalte erzeugt werden, indem solche Strukturen, die in dem Muster auf dem Strukturträger dicht nebeneinander angeordnet sind, möglichst verschiedenen Teilmustern zugeordnet und dadurch voneinander getrennt werden, und daß die Teilmuster zueinander zeitversetzt auf den Gegenstand übertragen und dadurch die Strukturen wieder zusammengefügt werden. Dadurch wird eine Verringerung der Strukturdichte bei der optischen Abbildung erzielt, so daß der Einfluß störender Strukturinterferenzen auf die Abbildung reduziert wird und somit bei gleicher Wellenlänge dichtere Strukturen abbildbar werden.
申请公布号 DE19937742(A1) 申请公布日期 2001.03.15
申请号 DE1999137742 申请日期 1999.08.10
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 PFORR, RAINER;GANS, FRITZ
分类号 G03F1/00;G03F7/20 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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