发明名称 |
A method and apparatus for heating a wafer |
摘要 |
|
申请公布号 |
GB2352507(A) |
申请公布日期 |
2001.01.31 |
申请号 |
GB20000018282 |
申请日期 |
2000.07.25 |
申请人 |
* SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
CHAN-HOON * PARK |
分类号 |
G03F7/38;F28D15/02;G03F7/40;H01L21/00;H01L21/027;H01L21/324;H05B3/20;H05B3/68;(IPC1-7):H01L21/00 |
主分类号 |
G03F7/38 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|