COMPOSICIONES QUELANTES QUE COMPRENDEN COMPUESTOS DE ALFA-DIAMINAS.

摘要

LA INVENCION COMPRENDE COMPOSICIONES FOTOPROTECTORAS QUE SON UTILES PARA APLICACIONES TOPICAS PARA EVITAR LOS DAÑOS DE LA PIEL PROVOCADOS POR LA EXPOSICION AGUDA O CRONICA A LA LUZ ULTRAVIOLETA, QUE COMPRENDEN AGENTES QUELANTES QUE TIENEN LA FORMULA (I) EN LA QUE CADA -R1 ESTA INDEPENDIENTEMENTE SELECCIONADA ENTRE EL GRUPO QUE CONSTA DE ALQUILO, ARILO Y HETEROARILO, O LAS -R1 ESTAN COVALENTEMENTE UNIDAS ENTRE SI PARA FORMAR UN ALQUILO CICLICO; -R2 Y -R3 SON -OR4, EN CUYO CASO O NO HAY ENLACE O HAY UN ENLACE POLAR ENTRE -R2 Y EL NITROGENO COVALENTEMENTE UNIDO A -R3, CADA -R4 ESTA INDEPENDIENTEMENTE SELECCIONADA ENTRE EL GRUPO QUE CONSTA DE HIDROGENO, ALQUILO, ARILO Y HETEROARILO EXCEPTO QUE AMBAS -R4 NO SON METILO CUANDO AMBAS -R1 SON FURILO; O -R2 ES -OCOVALENTEMENTE UNIDO A -R3, Y -R3 ES -O UNA CARGA + SOBRE EL NITROGENO AL CUAL ESTA UNIDA O NULO; -NR2 Y -NR3 ESTAN EN CONFIGURACION AMPHI CUANDO AMBAS SON -OH, Y CUANDO AMBAS -R1 SON FURILO O LAS -R1 ESTAN COVALENTEMENTE UNIDAS ENTRE SI PARAFORMAR UNA ESTRUCTURA DE CICLOEXANODIONA. TAMBIEN SE PRESENTAN METODOS PARA USAR TALES COMPOSICIONES PARA EVITAR LOS DAÑOS A LA PIEL PROVOCADOS POR LA EXPOSICION AGUDA O CRONICA A LA LUZ ULTRAVIOLETA.