发明名称 Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten
摘要 Die Erfindung betrifft ein IR-strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger, einer Grundierschicht, einer IR-absorbierenden Schicht und einer Silikonschicht. Die Grundierschicht enthält eine Mischung aus einem nichtmodifizierten Epoxidharz, einem weiteren organischen Polymer, das funktionelle Gruppen aufweist und einem Vernetzer, der mit dem Epoxidharz und den funktionellen Gruppen des organischen Polymers reagiert. Bevorzugt enthält sie auch noch Pigmente, insbesondere anorganische Pigmente. Zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Offsetdruck wird das Aufzeichnungsmaterial mit IR-Strahlung, insbesondere mit IR-Laserstrahlung, bildmäßig belichtet und anschließend mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung von den ablatierten Schichtbestandteilen befreit. Die Grundierschicht bewirkt eine besonders gute Haftung der IR-absorbierenden Schicht auf dem Träger, ohne dabei die Entfernung der bestrahlten Bereiche der IR-absorbierenden Schicht beim Entwickeln zu behindern.
申请公布号 DE19908528(A1) 申请公布日期 2000.08.31
申请号 DE1999108528 申请日期 1999.02.26
申请人 AGFA-GEVAERT AG 发明人 GRIES, WILLI-KURT;SCHLOSSER, HANS-JOACHIM
分类号 G03F7/004;B41C1/10;B41N1/14;G03F7/00;G03F7/075 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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