首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
Recordings with associated location data
摘要
申请公布号
GB0004067(D0)
申请公布日期
2000.04.12
申请号
GB20000004067
申请日期
2000.02.21
申请人
HEWLETT-PACKARD COMPANY
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
形成嵌入式晶圆级晶片尺寸封装的半导体装置和方法;SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FORMING EMBEDDED WAFER LEVEL CHIP SCALE PACKAGES
电子元件之成型与表面处理方法及其制成物;METHOD FOR MOULDING AND SURFACE PROCESSING ELECTRONIC COMPONENTS AND ELECTRONIC COMPONENT PRODUCED WITH THIS METHOD
半导体装置的制造方法;METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
晶片堆叠结构之洗净方法及洗净设备;CLEANING METHOD OF CHIP STACKED STRUCTURE AND CLEANING APPARATUS
纠偏装置及等离子设备
用于对基底进行图案化的系统与方法;SYSTEM AND METHOD FOR PATTERNING SUBSTRATE
整合式多极电极结构之电子发射体装置;ELECTRON EMITTER DEVICE WITH INTEGRATED MULTI-POLE ELECTRODE STRUCTURE
气体鼓风装置;GAS BLOWER
单晶钻石的制造方法;PRODUCTION METHOD OF SINGLE CRYSTALLINE DIAMOND
镀钨电解质及形成含钨镀层方法;ELECTROLYTE FOR ELECTRODEPOSITING TUNGSTEN AND METHOD FOR FORMING TUNGSTEN-CONTAINING LAYER
卧式电镀装置
电解加工装置及其加工方法;APPARATUS AND METHOD OF ELECTROCHEMICAL MACHINING
金属基体表面处理方法;SURFACE TREATING METHOD FOR METAL HOUSING
夹具及具备该夹具的保持器
利用化学气相沉积法在矽基板上制备镍薄膜以及在矽基板上制备矽化镍薄膜的方法;METHOD OF MANUFACTURING NICKEL THIN FILM ON SI SUBSTRATE BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING NI SILICIDE THIN FILM ON SI SUBSTRATE
背板一体型之金属制溅镀靶及其制造方法
最适大豆基因座（一）;OPTIMAL SOYBEAN LOCI
红外线吸收性平凸印刷墨
光压印用硬化性组成物、图案形成方法、微细图案、及半导体装置的制造方法;PHOTO-CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINT, METHOD FOR FORMING PATTERN, FINE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
多烯－多硫醇系组成物;POLYENE-POLYTHIOL COMPOSITION
