发明名称 PROCEDE DE DURCISSEMENT D'UN DETECTEUR EN MATERIAU SEMI-CONDUCTEUR
摘要 <P>La présente invention concerne le domaine des dispositifs à semi-conducteur sensibles aux rayonnements infrarouge, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et adaptés comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique des appareils de visée ou de pointage et a plus particulièrement pour objet un procédé de durcissement d'un détecteur en matériau semi-conducteur contre un rayonnement apte à générer des défauts du type lacune-lacune ou lacune-phosphore dans ce matériau, caractérisé en ce qu'il consiste à implanter dans ce matériau, des ions aptes à migrer, après exposition du matériau audit rayonnement, vers ces défauts et à former, au moins en partie, des défauts du type lacune-cuivre.</P>
申请公布号 FR2783635(A1) 申请公布日期 2000.03.24
申请号 FR19980011638 申请日期 1998.09.17
申请人 INSTITUT FRANCO-ALLEMAND DE RECHERCHES DE SAINT-LOUIS 发明人 MOEGGIN JEAN PIERRE
分类号 H01L31/04;(IPC1-7):H01L23/552;H01L31/028 主分类号 H01L31/04
代理机构 代理人
主权项
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