发明名称 FOCUSED ION BEAM FORMING METHOD
摘要 <p>필름 형성 가스가 도입되고 필름을 형성하기 위해 집속 이온 빔이 주사될 경우, 필름 폭에 관계없이 그에 상당한 필름 두께를 유지하도록 필름 형성 처리 도중에, 주사 영역이 축소되고, 이온 빔 주사 도중에, 필름 형성 가스를 충분히 공급하기 위해, 일정한 타이밍으로 이온 빔에 대하여 블랭킹(blanking)을 달성하기 위한 방법으로 필름이 형성된다.</p>
申请公布号 KR19990082967(A) 申请公布日期 1999.11.25
申请号 KR19990011891 申请日期 1999.04.06
申请人 null, null 发明人 아이타가즈오
分类号 G03F1/72;G03F1/74;H01J37/317;H01L21/027;H01L21/205;H01L21/3205;H01L21/768 主分类号 G03F1/72
代理机构 代理人
主权项
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