SEMICONDUCTOR PRODUCTION APERTURE AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE,申请号JP19980097183-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	SEMICONDUCTOR PRODUCTION APERTURE AND SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号	JPH11293466(A)	申请公布日期	1999.10.26
申请号	JP19980097183	申请日期	1998.04.09
申请人	MATSUSHITA ELECTRON CORP	发明人	FUTAI KAZUSHI
分类号	C23C16/44;C23C16/455;C23C16/46;H01L21/205;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/44	主分类号	C23C16/44
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