| 发明名称 |
PRODUCTION OF TITANIUM FOR SPUTTERING TARGET, AND TITANIUM SLAB USED FOR THE PRODUCTION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11269640(A) |
申请公布日期 |
1999.10.05 |
| 申请号 |
JP19980077917 |
申请日期 |
1998.03.25 |
| 申请人 |
NIPPON STEEL CORP |
发明人 |
ISHII MITSUO;FUJII HIDEKI;KAWAHARA YOSHINAO;CHIBA MASAO |
| 分类号 |
B21B1/02;B21B3/00;B21J1/02;C22F1/00;C22F1/18;C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
B21B1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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