发明名称 |
Dry etching method of metal oxide/photoresist film laminate |
摘要 |
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申请公布号 |
SG65090(A1) |
申请公布日期 |
1999.05.25 |
申请号 |
SG19980002914 |
申请日期 |
1998.08.06 |
申请人 |
MITSUI CHEMICALS, INC. |
发明人 |
SADAMOTO MITSURU;YANAGAWA NORIYUKI;IWAMORI SATORU;SASAKI KENJU |
分类号 |
H01L21/3213;H01L31/18;(IPC1-7):H01L21/321 |
主分类号 |
H01L21/3213 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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