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发明名称 A sputtering apparatus and an ion source
摘要
申请公布号 EP0523695(B1) 申请公布日期 1999.05.06
申请号 EP19920112151 申请日期 1992.07.16
申请人 MITSUBISHI JUKOGYO KABUSHIKI KAISHA 发明人 YANAGI, KENICHI;KATO, MITSUO;TSURUSAKI, KAZUYA;TAGUCHI, TOSHIO;ATARASHIYA, KENJI;ROKKAKU, TADASHI;YAMASHITA, ICHIRO
分类号 H01J27/08;H01J27/18;H01J37/08;H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/32;C23C14/34;H01J37/34 主分类号 H01J27/08
代理机构 代理人
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