| 发明名称 |
MONITORING METHOD OF PLASMA PROCESS AND MONITORING APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1167732(A) |
申请公布日期 |
1999.03.09 |
| 申请号 |
JP19970226082 |
申请日期 |
1997.08.22 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRON CORP |
发明人 |
KUBOTA MASABUMI;HAYASHI SHIGENORI;OKUNI MITSUHIRO;YAMANAKA MICHINARI |
| 分类号 |
G01N21/68;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/66;H05H1/00;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
G01N21/68 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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