Reinigungszusammensetzung für die Herstellung von Halbleitervorrichtungen und ein Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen mittels derselben,申请号DE19981017486-传众专利搜索

发明名称	Reinigungszusammensetzung für die Herstellung von Halbleitervorrichtungen und ein Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen mittels derselben
摘要
申请公布号	DE19817486(A1)	申请公布日期	1999.01.28
申请号	DE19981017486	申请日期	1998.04.20
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD., SUWON, KYUNGKI, KR	发明人	KIL, JOON-ING, KYUNGKI, KR;JUN, PIL-KWON, SEOUL/SOUL, KR;YUN, MIN-SANG, KYUNGKI, KR;YUN, YOUNG-HWAN, SEOUL/SOUL, KR;KWACK, GYU-HWAN, SUWON, KR;CHON, SANG-MOON, KYUNGKI, KR
分类号	H01L27/04;H01L21/02;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/3213;H01L21/822;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/824	主分类号	H01L27/04
代理机构		代理人
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