发明名称 微通道板防离子反馈膜的制作方法
摘要 一种微通道板防离子反馈膜的制作方法,本发明采用先涂覆有机膜,再用离子溅射镀防离子反馈膜,经焙烧后将有机膜分解,则留下一层防离子反馈薄膜;其不仅能够防止离子反馈、延长器件使用寿命,改善成像质量,且具有方法简单、容易掌握、成本低的优点;其适用于各种真空器件中需要防离子反馈膜的制作。
申请公布号 CN1202536A 申请公布日期 1998.12.23
申请号 CN97108674.5 申请日期 1997.10.10
申请人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明人 杜力;侯洵
分类号 C23C14/34;C23C14/08 主分类号 C23C14/34
代理机构 中国科学院西安专利事务所 代理人 任越
主权项 1.一种微通道板防离子反馈膜的制作方法,采用有离子溅射制膜技术和有机膜涂覆及焙烧方法,其特征在于,在微通道板的输入端面先涂覆一层有机膜,再采用离子溅射制膜技术在其上制作防离子反馈薄膜,经焙烧将有机膜分解,则保留下均匀、致密、牢固的防离子反馈薄膜;其中离子溅射制膜条件为,使微通道板处于液氮低温,在惰性气体的真空条件下,以制膜材料为靶面进行离子溅射制膜。
地址 710068陕西省西安市友谊西路234号