发明名称 | 微通道板防离子反馈膜的制作方法 | ||
摘要 | 一种微通道板防离子反馈膜的制作方法,本发明采用先涂覆有机膜,再用离子溅射镀防离子反馈膜,经焙烧后将有机膜分解,则留下一层防离子反馈薄膜;其不仅能够防止离子反馈、延长器件使用寿命,改善成像质量,且具有方法简单、容易掌握、成本低的优点;其适用于各种真空器件中需要防离子反馈膜的制作。 | ||
申请公布号 | CN1202536A | 申请公布日期 | 1998.12.23 |
申请号 | CN97108674.5 | 申请日期 | 1997.10.10 |
申请人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明人 | 杜力;侯洵 |
分类号 | C23C14/34;C23C14/08 | 主分类号 | C23C14/34 |
代理机构 | 中国科学院西安专利事务所 | 代理人 | 任越 |
主权项 | 1.一种微通道板防离子反馈膜的制作方法,采用有离子溅射制膜技术和有机膜涂覆及焙烧方法,其特征在于,在微通道板的输入端面先涂覆一层有机膜,再采用离子溅射制膜技术在其上制作防离子反馈薄膜,经焙烧将有机膜分解,则保留下均匀、致密、牢固的防离子反馈薄膜;其中离子溅射制膜条件为,使微通道板处于液氮低温,在惰性气体的真空条件下,以制膜材料为靶面进行离子溅射制膜。 | ||
地址 | 710068陕西省西安市友谊西路234号 |