发明名称 氧气产生装置
摘要 一种氧气产生装置,它由二本体构成一装置盒,在该二本体上设有二瓶槽及一管槽,两瓶槽分布设置反应瓶和集瓶,管槽接设通二瓶的通管;反应瓶的瓶口凸出于本体上侧面,在反应瓶盖与瓶口螺合的内部间隙夹有化学剂贮体上部的对缘瓶盖的凸部设有一通孔,上部设有压部的推杆及一凸抵部组合设置其中,凸抵部位于化学贮体内部,剂筒位于化学剂贮体内部,该隔体的下方位、于化学剂贮体的底缘以封设有铝箔;铝箔上部隔体下部贮放触媒剂,集气瓶内部设有过滤系统,该过滤系统连接插管,并自集体瓶上部引出。
申请公布号 CN2298824Y 申请公布日期 1998.12.02
申请号 CN97216407.3 申请日期 1997.05.05
申请人 施志胜 发明人 施志胜
分类号 A62B21/00 主分类号 A62B21/00
代理机构 北京三友专利代理有限责任公司 代理人 刘芳
主权项 1、一种氧气产生装置,其特征在于:它由二本体构成一装置盒,在该二本体上设有二瓶槽及一管槽,其一瓶槽设置反应瓶,另一瓶槽设置集瓶,管槽接设通二瓶的通管;反应瓶的瓶口凸出于本体上侧面,并在瓶口外表设有外螺纹,以与带有内螺纹的瓶盖螺合,在瓶盖与瓶口螺合的内部间隙夹有化学剂贮体上部的对缘,对缘下部设有套衬;瓶盖的中央凸部设有一通孔,上部设有压部的推杆及一凸抵部组合设置其中,凸抵部位于化学贮体内部,化学剂贮体为上宽下窄的容器体,在上部设有一凹抵面、下方具切割缘的剂筒位于化学剂贮体内部,在剂筒的切割缘下方结合在化学剂贮体内壁体上设有一隔体,且在该隔体的下方位、于化学剂贮体的底缘以封设有铝箔;铝箔上部隔体下部贮放触媒剂,反应瓶的内部设导管的下部结合多孔性材,于本体上侧面上部,导管上部接一插管;集气瓶内部设有过滤系统,该过滤系统连接插管,并自集体瓶上部引出;插管插组导管并引接至一气罩,另一插管则接设带有道管的打气球。
地址 台湾省台北县中和市建康路5号3楼