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发明名称 SUPPORTING SUBSTRATE, METHOD FOR PRODUCING SUPPORTING SUBSTRATE, ELECTRONIC COMPONENT DEVICE AND METHOD FOR SURFACE TREATING SUPPORTING SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH10284539(A) 申请公布日期 1998.10.23
申请号 JP19970086470 申请日期 1997.04.04
申请人 HITACHI CHEM CO LTD 发明人 YUSA MASAMI;TAKEDA SHINJI;MIYADERA YASUO
分类号 C09J5/02;H01L21/52;H01L21/60;(IPC1-7):H01L21/60 主分类号 C09J5/02
代理机构 代理人
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