| 发明名称 |
MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH10275753(A) |
申请公布日期 |
1998.10.13 |
| 申请号 |
JP19970079917 |
申请日期 |
1997.03.31 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KOBAYASHI HIDE;IWATA YOSHIO |
| 分类号 |
H01L21/285;H01L21/02;H01L21/203;H01L21/302;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
