| 发明名称 |
CLOSED-LOOP DOME THERMAL CONTROL APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER PROCESSING SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10256228(A) |
申请公布日期 |
1998.09.25 |
| 申请号 |
JP19970369914 |
申请日期 |
1997.12.16 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
RYAN ROBERT E;LEAHEY PATRICK;CHEN JERRY C;REMINGTON RICHARD E;YAVELBERG SIMON;DRISCOLL TIMOTHY;HATCHER BRIAN;GUENTHER ROLF;SHUAYU CHEN |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/00;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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