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发明名称 SPUTTERING TARGET, SPUTTERING DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS PRODUCTION
摘要
申请公布号 JPH10195643(A) 申请公布日期 1998.07.28
申请号 JP19960348959 申请日期 1996.12.26
申请人 TOSHIBA CORP 发明人 SUGURO KYOICHI
分类号 C23C14/06;C23C14/16;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/28;H01L21/285;H01L29/78;(IPC1-7):C23C14/34 主分类号 C23C14/06
代理机构 代理人
主权项
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