发明名称 Process for producing metrological structures particularly useful for analyzing the accuracy of instruments for measuring alignment on processed substrates
摘要
申请公布号 EP0539686(B1) 申请公布日期 1998.07.15
申请号 EP19920114465 申请日期 1992.08.25
申请人 STMICROELECTRONICS S.R.L. 发明人 CANESTRARI, PAOLO;LIETTI, CARLO;RIVERA, GIOVANNI
分类号 H01L21/312;G03F7/00;H01L21/66;H01L23/544;(IPC1-7):G03F7/00 主分类号 H01L21/312
代理机构 代理人
主权项
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