发明名称 PLASMA JET SOURCE USING AN INERTIAL ELECTROSTATIC CONFINEMENT DISCHARGE PLASMA
摘要 <p>L'invention concerne la conception de jet d'ions électrostatique, basée sur la technologie de confinement électrostatique inertiel. Dans la source de jet à confinement électrostatique inertiel de l'invention, on utilise une configuration qui est compatible avec la génération et l'accélérations d'ions dans une chambre à vide (11). Le dispositif utilise un réseau d'orifices agrandi (113) de configuration sphérique spécifique, un réseau de guides de canaux et un procédé de confinement/production d'électrons. Dans les conception de la technique antérieure, il faut produire un jet de petit diamètre. La formation d'une cathode virtuelle dans une zone à haute densité, combinée à un champ de potentiel de grille de cathode déformé localement permet d'extraire les ions accélérés dans un jet intense d'ions quasiment neutres (117). Le dispositif éjecte les matières au moyen d'une forme de jet à utiliser en tant que matériaux de projection plasma industrielle, de traitement de matériaux industriel, de traitement des déchets, de soudage ou de découpage, ou pour le dépôt par plasma. L'invention porte aussi sur un dispositif pouvant produire une force de poussée propulsive pour la propulsion d'engin spatial, notamment un propulseur ionique, dans lequel on utilise une structure de confinement électrostatique inertiel à plasma de décharge pour la génération d'ions produisant la poussée lorsqu'ils sont accélérés et éjectés du dispositif dans le jet de plasma.</p>
申请公布号 WO1998019817(A1) 申请公布日期 1998.05.14
申请号 US1997019306 申请日期 1997.10.31
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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