发明名称 | 互补双极晶体管及其制造方法 | ||
摘要 | 有横向npn双极晶体管,垂直和横向pnp双极晶体管,集成注入逻辑,扩散电容器、多晶硅电容器和多晶硅电阻器的互补双极晶体管。横向双极晶体管有包括高浓度区和低浓度区的发射区和集电区,发射区形成在n型桶形区中。集成注入逻辑电路中,集电区由高浓度p型区包围,低浓度p型区形成在集电区下面。一个衬底中形成扩散电容器和多晶硅电容器。扩散区在形成多晶硅电阻器之前,除了把多晶硅电阻器中的杂质扩散进外延层中形成的区域之外,还形成沿多晶硅电阻器的多晶硅电极。 | ||
申请公布号 | CN1179627A | 申请公布日期 | 1998.04.22 |
申请号 | CN97119313.4 | 申请日期 | 1997.10.10 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金钟钚;权泰勋;金哲重;李硕均 |
分类号 | H01L29/735;H01L21/331;H01L27/04;H01L21/82 | 主分类号 | H01L29/735 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 马莹 |
主权项 | 1.一种横向双极晶体管,其包括:第一导电类型的半导体层;在该半导体层中形成的第一导电类型的第一桶形层,具有高于该半导体层的杂质浓度;在该半导体层中形成的第二导电类型的集电区,其中该集电区与第一桶形层分离,并且围绕第一桶形层;以及在第一桶形层中形成的第二导电类型的发射区。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |