| 主权项 |
1.一种具交替式散射条之光罩,该光罩至少包括:复数个图形;以及在每个该些图形之边缘,配置复数个交替式散射条,其中该些交替式散射条之相位与相邻之该些图形之相位存在有一相位移。2.如申请专利范围第1项所述之具交替式散射条之光罩,其中该相位移为180。3.如申请专利范围第1项所述之具交替式散射条之光罩,其中该些图案之相位为0,且该些交替散射条之相位为180。4.如申请专利范围第1项所述之具交替式散射条之光罩,其中该些图案之相位为180,且该些交替散射条之相位为0。5.如申请专利范围第1项所述之具交替式散射条之光罩,其中该些图案之线宽间距比小于1。6.一种具交替式散射条之光罩,该光罩至少包括:复数个图形;以及复数个交替式散射条,配置于每个该些图形之边缘,其中该些交替式散射条之相位与相邻之该些图形之相位移为180度。7.如申请专利范围第6项所述之具交替式散射条之光罩,其中该些图案之相位为0,且该些交替散射条之相位为180。8.如申请专利范围第6项所述之具交替式散射条之光罩,其中该些图案之相位为180,且该些交替散射条之相位为0。9.如申请专利范围第6项所述之具交替式散射条之光罩,其中该些图案之线宽间距比小于1。图式简单说明:第一图A绘示利用传统的光罩上DRAM胞的接触窗洞之曝光图形;第一图B绘示第一图A经过0.3微米的离焦(Defocus)后所得到的图形;第二图A绘示利用传统的散射条修正光罩上DRAM胞的接触窗洞图形后,所得到的曝光图形;第二图B绘示第二图A经过0.3微米的离焦(Defocus)后所得到的图形;第三图A绘示依照本发明一较佳实施例,利用本发明具有的交替式散射条之光罩,所得到DRAM胞的接触窗洞的曝光图形;以及第三图B绘示第三图A经过0.3微米的离焦(Defocus)后所得到的图形。 |
