| 摘要 |
Bei einer Vakuumbehandlungsanlage zum Aufbringen dünner Schichten auf Substrate (2,2',...), beispielsweise auf Scheinwerferreflektoren, mit mehreren, von einer ortsfesten Vakuumkammerwand (16,16',...) gehaltenen Behandlungs- (8,9,10) und/oder Ein-/Ausschleusstationen (20) und einem von der Vakuumkammerwand umschlossenen, drehbar gelagerten, die Substratkammern (3 bis 6) tragenden Innenzylinder (14) sind in der Vakuumkammerwand (16,16',...) Öffnungen (24 bis 27) vorgesehen, mit denen die Substratkammern (3 bis 6) in Deckung bringbar sind und durch die die Behandlungsmittel auf die Substrate (2,2',...) einwirken können und/oder ein- und ausschleusbar sind, wobei eine der Substratkammern, zumindest aber die Ein-/Ausschleuskammer (20) einen Deckel oder eine Schleusenklappe (33) aufweist, die den direkten Zugang zur jeweils korrespondierenden Substratkammer gestattet, und wobei die Kammer (20) in Richtung auf den Innenzylinder (14) zu verschiebbar (A,B) und gegen die Außenwand des Zylinders (14) oder die rahmenförmige Stirnfläche der Substratkammer (3) preßbar ist. <IMAGE>
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