发明名称 垂直流体动压轴承装置
摘要 一旋转轴(3)插在一套筒(2)的轴承孔(2A)中,在套筒和旋转轴之间贮存着润滑剂(5)。在旋转轴的外表面与轴承孔的内表面中至少之一上成型出上方和下方凹槽结构部(31,32;2B,2C),这两凹槽结构部沿垂直方向间隔开,并当旋转轴在轴承孔中旋转时共同工作而产生动压力。旋转轴有一位于上方和下方凹槽结构部之间的凹部,用以在其中贮存润滑剂。该凹部呈不对称锥形(3A,3A’),这样,当旋转轴在轴承孔中旋转时,贮存在凹部里的润滑剂克服了作用在其上的重力作用而主要循环到上方凹槽结构部中,从而使上方和下方凹槽结构部得以均匀地润滑。
申请公布号 CN1169512A 申请公布日期 1998.01.07
申请号 CN97113613.0 申请日期 1997.06.10
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 浅田隆文;斋藤浩昭;浜田力
分类号 F16C17/00 主分类号 F16C17/00
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 张民华
主权项 1.一种垂直流体动压轴承装置包括一插在一套筒的轴承孔中的旋转轴,在套筒和旋转轴之间贮存着润滑剂,其中:在所述旋转轴的外表面与所述轴承孔的内表面中至少之一上成型出上方和下方凹槽结构部,这两凹槽结构部沿垂直方向间隔开,并当所述旋转轴在所述轴承孔中旋转时共同工作而产生动压力;所述旋转轴有一位于所述上方和下方凹槽结构部之间的凹部,用以在其中贮存润滑剂,所述凹部呈不对称锥形,这样,当所述旋转轴在所述轴承孔中旋转时,贮存在所述凹部里的润滑剂克服了作用在其上的重力作用而主要循环到所述上方凹槽结构部中,从而使所述上方和下方凹槽结构部得到均匀的润滑。
地址 日本国大阪府