| 发明名称 |
PULSE DC SPUTTERING METHOD AND DC PLASMA APPARATUS USED THEREFOR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH09137271(A) |
申请公布日期 |
1997.05.27 |
| 申请号 |
JP19960189981 |
申请日期 |
1996.07.01 |
| 申请人 |
II N I A DEIBIJIYON OF ASTEC AMERICA INC |
发明人 |
JIEFU SHII SERAAZU |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/38;C23C14/54;H01F41/18;H01J37/34;H01L21/203;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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