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<p>Beschreiben wird ein Verfahren zur Herstellung von Chlordifluoracetylchlorid aus 1,1-Difluor-2,2-dichlorethylen, Dichloracetylchlorid aus Trichlorethylen bzw. 1,1,2,2-Tetrachlorethan und Trichloracetylchlorid aus Tetrachlorethylen. Man setzt die genannten Ausgangsverbindungen kontinuierlich mit Sauerstoff in einer photochemischen Oxidation um, wobei man Chlor als Sensibilisator zusetzen kann und in der Gasphase arbeitet. Die Umsetzung wird bei Chlorzusatz derart durchgeführt, daß man mit Licht einer Wellenlänge μ » 280 nm bestrahlt. Vorzugsweise arbeitet man drucklos. Besonders hohe Umsätze mit hoher Selektivitiät werden bei Anwendung dotierter Quecksilber-Hochdruckstrahler erzielt.</p> |
