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经营范围
发明名称
PHOTOMASK FOR CONTROLLING NEAR PATTERN EFFECT
摘要
申请公布号
KR1019960016312(B1)
申请公布日期
1996.12.09
申请号
KR1019920027344
申请日期
1992.12.31
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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