| 发明名称 |
SILICA BASED INSULATING MATERIAL AND MANUFACTURE OF INSULATING FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08241890(A) |
申请公布日期 |
1996.09.17 |
| 申请号 |
JP19950044083 |
申请日期 |
1995.03.03 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
NAKADA YOSHIHIRO;FUKUYAMA SHUNICHI;KOBAYASHI TOMOKO |
| 分类号 |
H01L21/768;C08G77/12;H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/312 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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