发明名称 PLASMA REACTOR WITH MULTISECTION RF COIL AND WITH ISOLATED CONDUCTIVE LID
摘要
申请公布号 JPH08213196(A) 申请公布日期 1996.08.20
申请号 JP19950181544 申请日期 1995.07.18
申请人 APPLIED MATERIALS INC 发明人 JIERARUDO TSUEYAO IN;HIROJI HANAWA;DAIANA SHIYAOBIN MAA;DONARUDO ORUGADO
分类号 H05H1/46;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H05H1/46;H01L21/306 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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