| 发明名称 |
AUTOMATIC SEMICONDUCTOR-SUBSTRATE TREATMENT METHOD |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH08138985(A) |
申请公布日期 |
1996.05.31 |
| 申请号 |
JP19940274737 |
申请日期 |
1994.11.09 |
| 申请人 |
HITACHI LTD;HITACHI HOKKAI SEMICONDUCTOR LTD |
发明人 |
KANBARA TOSHIHIDE |
| 分类号 |
H01L21/02;(IPC1-7):H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
