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发明名称 Foto- und wärmehärtende Beschichtungszusammensetzung und Verfahren zum Herstellen von Resist-Lötmasken.
摘要
申请公布号 DE69300657(T2) 申请公布日期 1996.03.21
申请号 DE19936000657T 申请日期 1993.06.04
申请人 TAIYO INK MFG. CO. LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 SAITOH, TERUO, IWATSUKI-SHI, SAITAMA-KEN, JP;NAKAMURA, SHINJI, SAKA-DO-SHI, SAITAMA-KEN, JP;KIMURA, NORIO, KAWAGOE-SHI, SAITAMA-KEN, JP;INAGAKI, HITOSHI, HIKI-GUN, SAITAMA-KEN, JP;SUZUKI, MORIO, OKEGAWA-SHI, SAITAMA-KEN, JP;SAWAZAKI, KENJI, TSURUGASHIMA-SHI, SAITAMA-KEN, JP
分类号 G03F7/027;G03F7/032;G03F7/038;G03F7/38;G03F7/40;H05K3/28;(IPC1-7):G03F7/038 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
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