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发明名称 Positiv arbeitende Photolackzusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69301273(D1) 申请公布日期 1996.02.22
申请号 DE19936001273 申请日期 1993.05.26
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD., OSAKA, JP 发明人 NAGASE, KYOKO, IBARAKI-SHI, JP;OSAKI, HARUYOSHI, TOYONAKA-SHI, JP;HASHIMOTO, KAZUHIKO, IBARAKI-SHI, JP;MORIUMA, HIROSHI, NARA-SHI, JP
分类号 G03F7/022;C08G8/04;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/023 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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