发明名称 Process for the after-treatment of plates, foils or strips and its application as substrate for offset printing plates.
摘要 Anoxidierte Al/AlOOH-Oberflächen von Aluminiumschichtträgern werden durch Antrag von Natriumschichtsilikat ϑ-Na2Si2O5 in Abhängigkeit von der Konzentration der Antragslösung und der Temperatur des Tauchbades silikatisiert. Bei dem Natriumschichtsilikat handelt es sich um reines, kristallines Natriumsilikat. Es besitzt einen schichtförmigen, polymeren Aufbau. Zur Erhöhung der Alkaliresistenz von silikatisierten Aluminiumschichtträgern wird mit ionenhaltigem Wasser, beispielsweise Stadtwasser, oder mit Lösungen, die Alkali- und/oder Erdalkaliionen enthalten, nachgespült.
申请公布号 EP0683248(A1) 申请公布日期 1995.11.22
申请号 EP19950107331 申请日期 1995.05.15
申请人 HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 WIEDEMANN, WOLFGANG, DR. DIPL.-CHEM.
分类号 B41M7/00;B41N1/08;B41N3/03;C25D11/18;C25D11/20;C25D11/24;(IPC1-7):C25D11/24 主分类号 B41M7/00
代理机构 代理人
主权项
地址