发明名称 Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterspeicheranordnung.
摘要
申请公布号 DE69017803(T2) 申请公布日期 1995.09.28
申请号 DE19906017803T 申请日期 1990.08.30
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 TSUNODA, HIROAKI, 1-1-1, SHIBAURA, MINATO-KU, TOKYO, JP
分类号 H01L21/8247;H01L21/28;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L29/788 主分类号 H01L21/8247
代理机构 代理人
主权项
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