发明名称 |
真空室型低温处理装置 |
摘要 |
本发明涉及一种真空室型低温处理装置,它包括冷却剂容器、提升机构以及检测与控制系统,本发明的特征在于该装置还具有用来盛装工件避免其与冷却剂相接触,且能抽真空以控制工件温变速率的真空型工作室,以及为该真空型工作室抽取真空的真空系统,该检测与控制系统包括检测与控制仪表、测量工作室真空度的规管接头和测量工作室内温度的温度计引线接头。本装置用于材料的低温处理。它结构简单,操作方便,通用性强,无公害,成本低,而对工件处理效果好,适用于工业生产的广泛需要。 |
申请公布号 |
CN1029523C |
申请公布日期 |
1995.08.16 |
申请号 |
CN91107231.4 |
申请日期 |
1991.06.20 |
申请人 |
核工业西南物理研究院 |
发明人 |
任连治;李彩云;陈荣光;滕秋安 |
分类号 |
C21D6/04 |
主分类号 |
C21D6/04 |
代理机构 |
核工业专利法律事务所 |
代理人 |
刘世权 |
主权项 |
1.一种低温处理装置,包括有冷却剂容器(1)、提升机构(4)以及检测与控制系统,其特征在于该装置还具有用来盛装工件避免其与冷却剂相接触,且能抽真空以控制工件温变速率的真空型工作室(2),以及为该真空型工作室(2)抽取真空的真空系统。 |
地址 |
610041四川省成都市432信箱成都市人民南路四段倪家桥 |