Appareil pour le dépôt chimique en phase vapeur.

摘要

L'invention concerne un appareil de dépôt chimique en phase vapeur pour la croissance cristalline sur une pastille disposée dans une chambre de réaction dans laquelle sont fournies des matières à l'état gazeux d'une partie supérieure de la chambre de réaction alors que les matières à l'état gazeux s'échappent du fond de la chambre.
Selon l'invention, il comprend un suscepteur (2) sur lequel est placée la pastille (4), un réchauffeur (5) disposé sous le suscepteur (2) pour le chauffer et un organe cylindrique détachable (7) disposé au fond de la chambre de réaction (1) afin de couvrir des pièces sous le suscepteur (2) et d'empêcher les matières à l'état gazeux de s'écouler autour des pièces sous ce suscepteur (2).
L'invention s'applique notamment aux semiconducteurs.