发明名称 DEPOSIZIONE PER SPRUZZO A PLASMA A RADIOFREQUENZA BASSA
摘要 <p>Si realizza un metodo di disposizione per spruzzo a plasma a radiofrequenza bassa che è specialmente efficace nel ridurre perdite e migliorare il riscaldamento di particelle. In un aspetto dell'invenzione, un cannone per plasma a radiofrequenza è fatto funzionare in una gamma di frequenza al di sotto di 1MHz e una miscela di argon e elio, al quale un terzo componente, come idrogeno, può pure essere ammesso, è sostituita alla miscela standard di argon e idrogeno usata a frequenze superiori a 2MHz. In un altro aspetto dell'invenzione, un cannone per plasma a radiofrequenza viene fatto funzionare nella gamma di frequenza da 400 a 500 KHz e vengono esposte particolari procedure le condizioni di avviamento e di funzionamento e di una deposizione con successo di titanio e di leghe di metalli refrattari.</p>
申请公布号 IT1247907(B) 申请公布日期 1995.01.05
申请号 IT1991MI01256 申请日期 1991.05.08
申请人 GENERAL ELECTRIC COMPANY 发明人 FRIND GERHARD;SIEMERS PAUL ALFRED;RUTKOWSKI STEPHEN FRANCIS
分类号 B05B7/22;C23C4/12;H05H1/44;(IPC1-7):C23C 主分类号 B05B7/22
代理机构 代理人
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