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发明名称 MANUFACTURING PROCESS FOR DOUBLE-LEVEL METALLIZED LARGE-SCALE INTEGRATED CIRCUITS
摘要
申请公布号 RU2022407(C1) 申请公布日期 1994.10.30
申请号 SU19915022269 申请日期 1991.07.08
申请人 NAUCHNO-ISSLEDOVATELSKIJ INSTITUT ELEKTRONNOJ TEKHNIKI 发明人 KRASNOZHON ALEKSANDR I;FROLOV VLADIMIR V;KHVOROV LEONID I
分类号 H01L21/82;(IPC1-7):H01L21/82 主分类号 H01L21/82
代理机构 代理人
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