| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0665327(A) |
申请公布日期 |
1994.03.08 |
| 申请号 |
JP19920221370 |
申请日期 |
1992.08.20 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
ICHIKAWA TATSUYA;ENDO MASAKI;KAMAKURA YUICHI;NAKAMURA MITSUYOSHI;SAWABE MASARU |
| 分类号 |
C08F2/44;C08F2/48;C08F2/50;C08F20/10;C08F220/10;C08F220/18;C08F220/20;C08F267/00;C08F290/00;C08F299/02;C23F1/00;G03F7/027;G03F7/033;H05K3/00;(IPC1-7):C08F220/18 |
主分类号 |
C08F2/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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