发明名称 PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
摘要 L'invention concerne un photosensibilisateur qui comprend un squelette consistant en un diazo-ester de composé cyclique de benzolactone tel que la phénolphtaléine ou la phtaléine crésolique, dans lequel au moins un des groupes hydroxy sur le noyau benzolactone a été estérifié avec du chlorure de diazo-sulfuryle contenant 60 à 100 % en poids ou un mélange de chlorure de diazo-sulfuryle- 2,1,4 ou 2,1,5. De plus, ledit photosensibilisateur comprend un agent photorésistant contenant un admixtion de photosensibilisateur, en quantité suffisante dans la composition photorésistante pour photosensibiliser uniformément ladite composition photorésistante. Il contient également de la novolaque soluble dans l'alcali volatil et insoluble dans l'eau, la quantité de novolaque présente dans la composition photorésistante étant suffisante pour former une composition pratiquement homogène et un solvant approprié.
申请公布号 WO9318439(A1) 申请公布日期 1993.09.16
申请号 WO1993US01746 申请日期 1993.02.25
申请人 HOECHST CELANESE CORPORATION 发明人 KHANNA, DINESH, N.;MCKENZIE, DOUGLAS;SOBODACHA, CHESTER, J.;DAMMEL, RALPH, R.
分类号 G03F7/022 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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