发明名称 |
APLICADOR PARA DIRIGIR SUBSTRATO DE REVESTIMIENTO A UN SUBSTRATO. |
摘要 |
<p>Un proceso para dirigir materiales de revestimiento a substrato con reducción reducida de llovizna y alcanse acrecentado de espesor del revestimiento y uniformidad de cobertura. Un flujo de líquido de revestimiento o fluído es dirigido hacia un substrato, y combinado en gotitas en tránsito por medio de un fluído incidente co-fluyente. El fluído incidente cambia el líquido en gotitas que forman llovizna fina. La llovizna es propulsada hacia; y depositada sobre el substrato por el fluído incidente.</p> |
申请公布号 |
MX9201659(A) |
申请公布日期 |
1993.07.01 |
申请号 |
MX19920001659 |
申请日期 |
1991.12.02 |
申请人 |
WEYERHAEUSER COMPANY |
发明人 |
TED MCDERMOTT;JOHN J. WATKINS;TERRY N. ADAMS;ALAN SCOTT WALLICK;R. SCOTT STEPHENS;JOHN A. WESTLAND |
分类号 |
B05C7/02;(IPC1-7):B05C7/02 |
主分类号 |
B05C7/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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