| 发明名称 |
CONTINUOUS SPUTTERING SYSTEM FOR RESIN SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05112867(A) |
申请公布日期 |
1993.05.07 |
| 申请号 |
JP19910124607 |
申请日期 |
1991.04.30 |
| 申请人 |
TDK CORP |
发明人 |
TAKAHASHI TETSUO;YOSHIDA MASAYUKI;WATANABE GENICHI;MIYAJIMA TOSHIHIKO;MIYAUCHI EISAKU |
| 分类号 |
C23C14/20;C23C14/40;C23C14/56 |
主分类号 |
C23C14/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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