Compounds containing acid-cleavable protective groups and positive-working radiation-sensitive compositions prepared using these compounds.

摘要

Die Erfindung betrifft Verbindungen der allgemeinen Formel I worin X: ein Phenyl-, [1]Naphthyl- oder [2]Naphthylrest ist, der jeweils mit mindestens einer tert.-Butoxycarbonyloxygruppe substituiert ist und gegebenfalls einen oder mehr als einen zusätzlichen Substituenten aufweist, R¹: für ein Wasserstoffatom, einen (C1-C6)Alkyl-, einen (C6-C10)Arylrest oder einen der Reste X steht und; R² und R³: gleich oder verschieden sind und einen (C1-C12)Alkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen durch Brückenglieder, die mindestens ein Heteroatom aufweisen, wie -O-, -S-, -NR<4>-, -CO-, -CO-O-, -CO-NH-, -O-CO-NH-, -NH-CO-NH-, -CO-NH-CO-, -SO2-, -SO2-O-, oder -SO2-NH-, ersetzt sind, einen (C3-C12)Alkenyl-, (C3-C12)Alkinyl, (C4-C12)Cycloalkyl-, (C4-C12)Cycloalkenyl- oder (C8-C16)Aralkylrest, in dem gegebenenfalls bis zu drei Methylengruppen des aliphatischen Teils durch Brückenglieder der oben genannten Art ersetzt sind und der im aromatischen Teil durch Fluor-, Chlor- oder Bromatome, durch (C1-C4)Alkyl-, (C1-C4)Alkoxy-, Nitro-, Cyano- oder tert.-Butoxycarbonyloxygruppen substituiert sein kann, bedeuten, wobei; R<4>: für einen Acyl-, insbesondere einen (C1-C6)Alkanoylrest, steht, und Verfahren zu ihrer Herstellung sowie positiv arbeitende strahlungsempfindliche Gemische, die diese Verbindungen als Lösungsinhibitoren enthalten. Sie betrifft weiterhin ein damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial, das für Photoresists, elektrische Bauteile und Druckplatten sowie zum Formteilätzen geeignet ist.