发明名称 VERFAHREN ZUR IN-SITU-HERSTELLUNG EINER SCHUTZSCHICHT AUF PHOTOLACK FUER PLASMAAETZEN.
摘要
申请公布号 DE3686092(T2) 申请公布日期 1993.01.07
申请号 DE19863686092T 申请日期 1986.05.19
申请人 APPLIED MATERIALS, INC., SANTA CLARA, CALIF., US 发明人 TAM, SIMON WOOD, SAN FRANCISCO CALIFORNIA 94121, US;WONG, JERRY YUEN KUI, UNION CITY CALIFORNIA 94587, US;READE, RONALD PAUL, PALO ALTO CALIFORNIA 94360, US;WANG, DAVID NIN-KOU, CUPERTINO CALIFORNIA 95014, US
分类号 C30B33/12;C23F1/00;C23F4/00;C30B33/00;G03F7/40;H01L21/308;H01L21/3105;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/31;G03F7/26;H01L21/306 主分类号 C30B33/12
代理机构 代理人
主权项
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