| 发明名称 |
POLYIMIDE RESISTANT TO REACTIVE ION ETCHING, METHOD FOR MANUFACTURING SAME AND USE OF SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04366133(A) |
申请公布日期 |
1992.12.18 |
| 申请号 |
JP19910253578 |
申请日期 |
1991.10.01 |
| 申请人 |
INTERNATL BUSINESS MACH CORP <IBM> |
发明人 |
EDOWAADO DAAKO BABIIKU;MAIKURU HATSUAKISU;JIYURII ROSUTEISURABU PARASHICHIYAAKU;JIEIN MAAGARETSUTO SHIYOO |
| 分类号 |
C08G73/10;C08G77/42;C08G77/455;C08L79/08;C08L83/02;C08L83/10;C23F4/00 |
主分类号 |
C08G73/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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