| 发明名称 |
PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA LA CONFIGURACION DE UNA CAPA MEDIANTE PROCESO QUIMICO DE PLASMA. |
| 摘要 |
SE PROPONE UN PROCEDIMIENTO Y UN DISPOSITIVO PARA FORMACION DE UNA CAPA DE UNA SUPERFICIE DE UN SUSTRATO MEDIANTE PROCESO PLASMAQUIMICO. CON ELLO SE DIRIGE LA SUPERFICIE PARALELAMENTE AL CAMPO ELECTRICO QUE SE NECESITA PARA EL PROCESO PLASMAQUIMICO. ADEMAS EL GAS NECESARIO CORRE INMEDIATAMENTE SOBRE LA SUPERFICIE.
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| 申请公布号 |
ES2031098(T3) |
申请公布日期 |
1992.12.01 |
| 申请号 |
ES19870112323T |
申请日期 |
1987.08.25 |
| 申请人 |
NUKEM GMBH |
发明人 |
VON CAMPE, HILMAR;LIEDTKE, DIETMAR;SCHUM, BERTHOLD;WORNER, JORG |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/509;H05H1/46;(IPC1-7):H01L31/18 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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