| 发明名称 |
IMPROVED PROCESS FOR SELECTIVE DEPOSITION OF TUNGSTEN ON SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0430303(A3) |
申请公布日期 |
1992.10.28 |
| 申请号 |
EP19900123025 |
申请日期 |
1990.12.01 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
CHANG, MEI;WANG, DAVID NIN-KOU |
| 分类号 |
C23C16/02;C23C16/04;C23C16/06;C23C16/54;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/285 |
主分类号 |
C23C16/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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