主权项 |
1.化合物(I):式中R1系C1-4烷基或C1-4醯基,A系基(IIa )或(IIb):式中R3系氢、C1-4烷基或如式(III)之基:式 中R5系氢、甲基或乙醯基,R4系C2-8烷撑或介入1或2 个氧 原子之C4-10烷撑;p及r互为相同或不同,为整数2或3,q 系0或1,R2系OH、ONa、OK、C1-4,C1-4醯氧基、R1-A-基 或式(Ⅳ):式中R1及A如前述,若R2系基(Ⅳ),则位于式( I)括弧外的末端基R1又可为:式中R1及A如前述,n系1 至 10之数。2.如申请专利范围第1项之化合物(I),式中R 1系甲基或乙 醯基; A系基(IIa)或(IIb),其中R3系氢,甲基或基(Ⅲ) ;R4系C2-6烷撑,或介入1或2个氧原子之C4-20烷撑;p及 r互为相同或不同,系2或3,q系0或1,R2系OH,ONa,OK ,甲氧基,乙醯氧基,R1-A-基,或基(Ⅳ),n系1至8之数 者。3.如申请专利范围第1项之化合物(I),式中R1系 甲基或乙 醯基; A系基(IIa)或(IIb),其中R3系氢,甲基或基(Ⅲ) ;R5系氢,甲基或乙醯; R4系C3-6烷撑或介入2个氧原子 之C9-10烷撑;p及r互为相同或不同,系2或3,q系0或1, R2系R1-A-基,或基(Ⅳ),n系1至5之数者。4.如申请专利 范围第1项之化合物(I),其含有重覆单元如 (V)者:式中R'4系三甲撑、六甲撑或4,7-二恶癸烷-1, 10-二基。5.一种组成物,其含有易受光、热或氧化 降解之聚烯及含 有占该聚烯重量0.01至5%的如申请专利范围第1项之 化合 物(I)。6.如申请专利范围第5项之组成物,其中聚烯 系聚乙烯或 聚丙烯。7.一种安定聚烯对抗因受光、热或氧化 而降解之方法,包 括掺入该聚烯中占该聚烯重量0.01至5%的如申请专 利范围 |